無磁光學平臺主要用于搭建立體閾上電離實驗系統(tǒng)，滿足對磁場有較高要求的實驗環(huán)境。
無磁光學平臺根據(jù)不同的應用需求和實驗條件有多種類型和規(guī)格可供選擇。例如，有臺面無磁型和臺面及支撐無磁型兩種類型，以滿足不同用戶對磁場敏感度的要求。規(guī)格方面，平臺的大小、高度、負載能力等參數(shù)均可根據(jù)用戶需求進行定制。
無磁光學平臺是一種特殊的實驗設備，其主要功能和特點包括：
滿足特定實驗需求：無磁光學平臺主要用于搭建立體閾上電離實驗系統(tǒng)，這種實驗需要在無磁無震動環(huán)境下進行，以確保實驗結果的準確性。
材料選擇：平臺通常采用304不銹鋼或316不銹鋼制成，這些材料具有好的無磁性，能夠滿足對磁場有較高要求的實驗環(huán)境。
技術指標：無磁光學平臺的技術指標包括其無磁性、隔振性能等，這些指標對于保證實驗的準確度和穩(wěn)定性很重要。
應用領域：無磁光學平臺廣泛應用于光學實驗、醫(yī)學實驗、精密儀器生產檢測、航空航天等領域，其中光學實驗包括但不限于立體閾上電離實驗、顯微鏡、光路測試、光學測量等。
技術特點：無磁光學平臺具有好的隔振性能和自動調節(jié)水平的功能，這些特點有助于改善振動環(huán)境，提高儀器設備的精度和使用效率。
綜上所述，無磁光學平臺是一種專門設計用于滿足特定實驗需求的高精度設備，它在科學研究和技術開發(fā)中扮演著重要的角色。
